Формирование интерференционных картин затухающих электромагнитных волн для наноразмерной литографии с помощью волноводных дифракционных решеток

Рассмотрено формирование интерференционных картин затухающих электромагнитных волн с существенно субволновым периодом с помощью диэлектрических волноводных дифракционных решеток. На основе моделирования в рамках электромагнитной теории показана возможность получения интерференционных картин высокого качества за счет усиления затухающих порядков дифракции при резонансных условиях. Контраст интерференционных картин в случае ТЕ поляризации падающей волны близок к единице. Интенсивность поля в интерференционных максимумах в ближнем поле в 25 — 100 раз превышает интенсивность падающей волны. Показана возможность формирования интерференционных картин затухающих волн, соответствующих высшим порядкам дифракции. Использование высших порядков снижает требования к технологии изготовления и позволяет формировать интерференционные картины, имеющие высокую пространственную частоту, с помощью дифракционных решеток с низкой пространственной частотой. Представлены примеры формирования интерференционных картин с периодами, в 6 раз меньшими, чем у используемых дифракционных решеток.