RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2012, том 42, номер 1, страницы 87–94 (Mi qe14769)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Электромагнитные поля

Локализованные плазмоны на апертуре канала, проходящего через слой металла

Т. И. Кузнецова, Н. А. Распопов

Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва

Аннотация: Проведено исследование световых полей в планарном канале внутри металлического слоя при учете комплексной диэлектрической функции металла. Рассмотрено воздействие выходной апертуры на исходное поле, распространяющееся по каналу; построена математическая техника для анализа этого воздействия. Отмечено, что поле на выходной апертуре не может считаться заранее заданным, если не учтены процессы преобразования волн при выходе из канала. Для выбранных параметров канала и металла найдены коэффициенты трансформации низшей моды в различные моды более высоких номеров. Построено пространственное распределение поля на выходной апертуре и выходной поверхности металла. Показано, что существует ряд точек, где все компоненты электромагнитного поля имеют аномально высокую интенсивность.

Ключевые слова: наноразмерная щель в металле, моды планарного канала, отражение поля на апертуре, особые точки в пространственной структуре поля.

PACS: 42.25.Fx, 42.30.Wb, 42.79.Jq

Поступила в редакцию: 14.11.2011


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2012, 42:1, 87–94

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024