RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2013, том 43, номер 11, страницы 1043–1047 (Mi qe15259)

Нелинейно-оптические явления

Влияние внешнего электрического поля и фоновой засветки на профиль интенсивности оптических поверхностных волн в системе металл – фоторефрактивный кристалл

И. М. Ахмеджанов

Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва

Аннотация: Проведено численное моделирование влияния внешнего электрического поля и фоновой засветки на профиль интенсивности оптических фоторефрактивных поверхностных волн на границе металл – фоторефрактивный кристалл. Моделирование осуществлено для кристалла ниобата бария – стронция (SBN) при значениях параметров, соответствующих экспериментальным данным. При численном моделировании обоснованы замена реального металла идеальным и выбор соответствующих граничных условий в зависимости от мощности волны. Выявлены хорошее соответствие результатов расчета ранее опубликованным экспериментальным данным в части влияния фоновой засветки и существенное расхождение в части воздействия внешнего электрического поля. Показана возможность существенного увеличения влияния внешнего электрического поля при уменьшении оптической мощности фоторефрактивной волны до значений, близких к пороговым.

Ключевые слова: фоторефрактивный кристалл, фоторефрактивная поверхностная волна, мощность поверхностной волны.

PACS: 73.20.Mf, 42.70.Nq

Поступила в редакцию: 15.06.2013
Исправленный вариант: 30.09.2013


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2013, 43:11, 1043–1047

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024