RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1999, том 28, номер 2, страницы 167–172 (Mi qe1560)

Эта публикация цитируется в 32 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

Сравнительное исследование абляции материалов фемтосекундными и пико/наносекундными лазерными импульсами

Т. В. Кононенкоa, В. И. Коновa, С. В. Гарновa, Р. Даниелиусb, А. Пискарскасb, Г. Тамошаускасb, Ф. Даусингерc

a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
b Центр лазерных исследований Вильнюсского университета, Литва
c Институт лучевых технологий Штуттгардского университета, Германия

Аннотация: Выполнен цикл исследований абляции на воздухе образцов стали, керамики Si3N4 и алмаза фемтосекундными (200 и 900 фс) импульсами на различных длинах волн (532 и 266 нм) и в широком диапазоне плотностей энергии (1 — 103 Дж/см2). Измерены скорости абляции при различной геометрии облучаемой поверхности (мелкий кратер и канал с высоким (до 10) аспектным отношением). Проведено сравнение скоростей абляции (в мелком кратере) и морфологии облученной поверхности для фемтосекундных и более длинных (220 пс, 7 нс) импульсов. Проанализирована роль лазерно-индуцированной плазмы при абляции материалов субпикосекундными импульсами, а также перспективы практического применения лазерных УКИ для обработки материалов.

PACS: 42.62.Cf, 79.20.Ds, 81.65.Cf

Поступила в редакцию: 26.03.1999


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1999, 29:8, 724–728

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024