RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1999, том 29, номер 1, страницы 24–26 (Mi qe1592)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Нормировка спектральных линий лазерной плазмы для измерения профиля слоистых материалов по глубине абляционного кратера

С. М. Першинa, Р. Х. Табаресb, Р. А. Нунесb

a Институт космических исследований РАН, г. Москва
b Pontifical Catholic University of Rio de Janeiro, Brasil

Аннотация: Разработан и экспериментально проверен алгоритм нормировки атомных линий в спектре лазерной плазмы для измерения профиля элементного состава слоистых образцов по глубине абляционного кратера. Применение разработанного алгоритма позволило устранить эффект сглаживания профиля вследствие изменения интенсивности линий по мере углубления кратера. Коррекция профиля показана на примере измерения толщины диффузного слоя оцинкованной листовой стали до и после ее прогрева при температуре 452°C.

PACS: 52.25.Rv, 52.50.Jm, 42.62.Eh

Поступила в редакцию: 29.12.1998


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1999, 29:10, 862–864

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024