А. Ю. Виноходов, В. М. Кривцун, А. А. Лаш, В. М. Борисов, О. Ф. Якушев, К. Н. Кошелев, “Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов”, Квантовая электроника, 46:1 (2016), 81

Эта публикация цитируется в 11 статьях

Источники для ЭУФ литографии

Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов

А. Ю. Виноходов^a, В. М. Кривцун^ba, А. А. Лаш^a, В. М. Борисов^c, О. Ф. Якушев^da, К. Н. Кошелев^ba

^a ООО "ЭУФ Лабс", г. Троицк, г. Москва
^b Институт спектроскопии РАН, г. Троицк
^c Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований
^d Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: Исследованы характеристики источника лазерно-индуцированного излучения экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) диапазона, которое получено в разряде между двумя струями жидкого олова, и продемонстрирована возможность создания на его основе источника ЭУФ излучения высокой яркости для использования в технологиях инспекции масок для проекционной ЭУФ литографии. Получена средняя эффективность конверсии электрической энергии в излучение спектрального диапазона 13.5±0.135 нм, равная примерно 2%/2π ср, с размером излучающей плазмы 0.2×0.35 мм. Продемонстрирована возможность создания источника ЭУФ излучения с яркостью около 200 Вт/(мм²·ср).

Ключевые слова: источник излучения ЭУФ диапазона, ЭУФ литография, плазма, разряд, лазер, струя жидкого олова, яркость источника.

Поступила в редакцию: 19.08.2014