RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2016, том 46, номер 2, страницы 119–124 (Mi qe16324)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Тепловая абляция пленки алюминия при поглощении фемтосекундного импульса лазерного излучения

С. Г. Бежановab, А. П. Канавинa, С. А. Урюпинab

a Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва
b Московский инженерно-физический институт (Национальный исследовательский ядерный университет)

Аннотация: Найдена зависимость от времени глубины абляции алюминия, взаимодействующего с фемтосекундным импульсом лазерного излучения. Показано, в какой мере увеличение плотности потока энергии излучения ведет к росту квазистационарного значения глубины абляции. При уменьшении толщины пленки алюминия до ста нанометров и менее глубина абляции заметно возрастает. При этом установление квазистационарного значения глубины абляции тонкой пленки происходит вследствие выноса тепла из области фокального пятна.

Ключевые слова: фемтосекундный импульс, металлическая нанопленка, лазерная абляция, алюминий.

Поступила в редакцию: 09.06.2015
Исправленный вариант: 26.11.2015


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2016, 46:2, 119–124

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024