RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2016, том 46, номер 5, страницы 406–413 (Mi qe16390)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Экстремальное лазерное излучение: физика и фундаментальные приложения

Влияние шероховатостей, детерминированных и случайных ошибок в толщинах пленок на отражательные характеристики апериодических зеркал для ЭУФ диапазона

П. К. Гайковичa, В. Н. Полковниковa, Н. Н. Салащенкоa, Н. И. Чхалоa, Ф. Шеферсb, А. Соколовb

a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Helmgoltz-Zentrum Berlin, Institute for Nanometer Optics and Technology, Germany

Аннотация: На примере трех апериодических многослойных Mo/Si-зеркал (AMЗ) для диапазонов длин волн 17 – 21 нм, 24 – 29 нм и 28406 – 33 нм численно изучено влияние детерминированных по линейному закону и случайных флуктуаций толщин пленок и межслойных шероховатостей на спектральные зависимости коэффициентов отражения. Результаты моделирования используются для решения обратной задачи по восстановлению межслойной шероховатости и индивидуальных толщин пленок по измеренным зависимостям коэффициентов отражения экстремального УФ излучения. Показано, что "асимметрия" границ влияет на величину и наклон плато коэффициента отражения. Случайные флуктуации толщин пленок с дисперсией 1% – 2% слабо влияют на отражательные характеристики AMЗ и позволяют надежно восстановить индивидуальные толщины пленок. Флуктуации с дисперсией 8% – 10% дают возможность оценить индивидуальные толщины, однако кривая отражения при этом существенно отличается от желаемой. Бóльшие флуктуации не позволяют восстановить структуру AMЗ. Сформулированы основные критерии, которые должны быть выполнены при синтезе высококачественных AMЗ.

Ключевые слова: апериодические многослойные зеркала, экстремальное ультрафиолетовое излучение, тонкие пленки.

Поступила в редакцию: 08.02.2016


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2016, 46:5, 406–413

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024