RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2016, том 46, номер 9, страницы 839–844 (Mi qe16467)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Рентгеновская оптика

О получении уменьшенных рентгеновских изображений при отражении излучения от шаблона под критическими углами

И. А. Артюков, А. С. Бусаров, А. В. Виноградов, Н. Л. Попов

Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: Предложены и промоделированы оптические схемы для получения уменьшенных изображений с помощью рентгеновских лазеров или генераторов гармоник в области длин волн ~14 нм. Шаблон в этом случае располагается под малым углом к оптической оси, соответствующим углу полного внешнего отражения материала. Определены оптимальное положение детектора (резиста) и пространственное разрешение. Результаты могут быть использованы при решении задач нанотехнологий и наноструктурирования поверхностей.

Ключевые слова: рентгеновская литография, экстремальный ультрафиолет, когерентные оптика и микроскопия.

Поступила в редакцию: 06.07.2016


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2016, 46:9, 839–844

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024