Аннотация:
Предложены и промоделированы оптические схемы для получения уменьшенных изображений с помощью рентгеновских лазеров или генераторов гармоник в области длин волн ~14 нм. Шаблон в этом случае располагается под малым углом к оптической оси, соответствующим углу полного внешнего отражения материала. Определены оптимальное положение детектора (резиста) и пространственное разрешение. Результаты могут быть использованы при решении задач нанотехнологий и наноструктурирования поверхностей.
Ключевые слова:рентгеновская литография, экстремальный ультрафиолет, когерентные оптика и микроскопия.