RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2016, том 46, номер 11, страницы 982–988 (Mi qe16496)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Управление параметрами лазерного излучения

Влияние характеристик входного импульса излучения на параметры XeF(C – A)-усилителя в лазерной системе THL-100

А. Г. Ястремскийa, Н. Г. Ивановa, В. Ф. Лосевab

a Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск
b Национальный исследовательский Томский политехнический университет

Аннотация: Представлены результаты экспериментальных и теоретических исследований влияния пространственных и энергетических параметров входного излучения c длительностью импульса 50 пс на выходные характеристики XeF(C – A)-усилителя мультитераваттной лазерной системы видимого диапазона THL-100. Исследована динамика радиального распределения плотности энергии лазерного излучения при прохождении его через усилитель. Приведены результаты численного моделирования усиления пучка лазерного излучения с гауссовым и супергауссовым радиальными распределениями плотности энергии. Показано, что экспериментально полученная энергия лазерного излучения 3.2 Дж не является предельной. Согласно расчетам, энергия на выходе усилителя для данной конфигурации зеркал может достигать 4.1 Дж, что при компрессии импульса до 50 фс даст мощность излучения 82 ТВт.

Ключевые слова: гибридная лазерная система THL-100, радиальное распределение интенсивности, максимальная энергия лазерного излучения, численное моделирование.

Поступила в редакцию: 05.07.2016
Исправленный вариант: 29.09.2016


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2016, 46:11, 982–988

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024