RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2019, том 49, номер 4, страницы 399–403 (Mi qe17013)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Волоконная оптика

Метод изготовления волоконного отражательного интерферометра на основе металлодиэлектрической дифракционной структуры

В. С. Терентьевa, В. А. Симоновa, И. А. Лобачab, С. А. Бабинab

a Институт автоматики и электрометрии СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет

Аннотация: Представлен и экспериментально продемонстрирован новый метод изготовления в одномодовом волокне двухзеркального волоконного отражательного интерферометра, состоящего из асимметричного входного зеркала с асимметричными коэффициентами отражения и высокоотражающего заднего зеркала. Входное зеркало выполнено на основе металло-диэлектрической дифракционной структуры в виде отверстия в пленке алюминия и диэлектрического многослойного покрытия, что дает асимметрию коэффициента отражения. Метод включает расчет энергетических коэффициентов алюминиевой пленки с отверстием, определение оптимального диаметра отверстия, способы изготовления отверстия, входного зеркала и резонатора с короткой волоконной базой. Продемонстрирован образец интерферометра, имеющий повышенную (как минимум на два порядка) лучевую стойкость по сравнению с вариантами на основе сплошной металлической пленки – не менее 100 мВт излучения в одномодовом волокне типа SMF-28e на длине волны 1550 нм.

Ключевые слова: волоконный отражательный интерферометр, алюминиевая пленка с отверстием, диэлектрическое интерференционное покрытие, дифракция.

Поступила в редакцию: 29.11.2018
Исправленный вариант: 18.01.2019


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2019, 49:4, 399–403

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024