RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2019, том 49, номер 4, страницы 380–385 (Mi qe17026)

Эта публикация цитируется в 11 статьях

Специальный выпуск 'Экстремальные световые поля и их взаимодействие с веществом'

Сравнение подходов в изготовлении широкополосных зеркал для ЭУФ диапазона: апериодические и стековые структуры

М. М. Барышеваa, С. А. Гарахинa, С. Ю. Зуевa, В. Н. Полковниковa, Н. Н. Салащенкоa, М. В. Свечниковa, Н. И. Чхалоa, С. Юлинb

a Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород
b Fraunhofer Institute for Applied Optics and Precision Engineering IOF, Germany

Аннотация: Разработан дизайн и экспериментально изучены апериодические и стековые шикорокополосные Mo/Si-зеркала для задач проекта "Кортес", оптимизированные на равномерное отражение в диапазоне длин волн 17–21 нм. Показано, что стековые структуры при незначительном проигрыше в величине коэффициента отражения оказываются намного более предпочтительными с точки зрения изготовления и аттестации, что, в свою очередь, позволяет корректировать процесс напыления и за небольшое число итераций достигать расчетных параметров многослойного зеркала.

Ключевые слова: ЭУФ, широкополосные зеркала, апериодические структуры, блок-структуры, стековые структуры, магнетронное напыление, обратная задача.

Поступила в редакцию: 06.03.2019


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2019, 49:4, 380–385

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024