RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2020, том 50, номер 4, страницы 408–413 (Mi qe17230)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Экстремальные световые поля и их взаимодействие с веществом

Эффективность генерации излучения в полосе 8–14 нм ионами криптона при импульсном лазерном возбуждении

А. Н. Нечай, С. А. Гарахин, А. Я. Лопатин, В. Н. Полковников, Д. Г. Реунов, Н. Н. Салащенко, М. Н. Торопов, Н. И. Чхало, Н. Н. Цыбин

Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород

Аннотация: Исследованы спектры излучения плазмы криптона в диапазоне 8–14 нм при возбуждении импульсной газовой струи излучением Nd :YAG-лазера с энергией импульса 0.85 Дж при длительности 5.2 нс, частоте следования 10 Гц и длине волны излучения 1.06 мкм. Спектр излучения криптона представляет собой широкую (8–14 нм) полосу с максимумом на длине волны 10.3 нм, образованную рядом значительно более узких линий. Проведена идентификация наблюдаемых линий и определена доля энергии лазерного импульса, преобразованная в эмиссионную полосу 8–14 нм и излученная в полупространство (2π ср). Максимальный коэффициент конверсии составил 21%. Осуществлено сравнение ожидаемой производительности литографических систем с источниками на основе ионов Sn, Xe и Kr для разных длин волн, соответствующих максимумам эмиссионных полос ионов этих материалов.

Ключевые слова: лазерная искра, плазма криптона, экстремальное ультрафиолетовое излучение, импульсная газовая мишень, коэффициент конверсии, литография.

Поступила в редакцию: 06.02.2020


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2020, 50:4, 408–413

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024