RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2020, том 50, номер 7, страницы 623–628 (Mi qe17280)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Голографические технологии (подборка статей по материалам докладов на конференции ''HOLOEXPO 2019'')

Предельные спектральные и угловые характеристики многослойных рельефно-фазовых дифракционных микроструктур

Г. И. Грейсухa, Е. Г. Ежовa, А. И. Антоновa, В. А. Даниловb, Б. А. Усиевичc

a Пензенский государственный университет архитектуры и строительства
b Научно-технологический центр уникального приборостроения РАН
c Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва

Аннотация: Методы оценки параметров рельефно-фазовых дифракционных микроструктур (локального и интегрального Q-факторов) распространены на случай многослойных двухрельефных пилообразных микроструктур, что обеспечивает возможность выбора наилучших комбинаций оптических материалов для многослойных микроструктур при весьма незначительных затратах компьютерного времени. Предложен подход к исследованию многослойных микроструктур, основанный на совместном использовании Q-факторов и метода строгого анализа связанных волн, который позволил оценить предельные спектральные и угловые характеристики многослойных микроструктур различных типов.

Ключевые слова: дифракционный оптический элемент, многослойная рельефно-фазовая дифракционная микроструктура, дифракционная эффективность, скалярная и строгая теории дифракции.

Поступила в редакцию: 18.02.2020
Исправленный вариант: 19.03.2020


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2020, 50:7, 623–628

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024