Оптическая и рентгеновская микролитография на рубеже веков

Представлен обзор развития методов промышленной фотолитографии на основе эксимерных лазеров и проекционной рентгеновской литографии в конце XX века – начале XXI века. Отражён вклад Н.Г.Басова и его коллег в ФИАНе и МИФИ в развитие этого направления.