RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2003, том 33, номер 1, страницы 3–6 (Mi qe2357)

Эта публикация цитируется в 12 статьях

Специальный выпуск, посвященный 80-летию академика Н. Г. Басова

Интенсивный источник ВУФ излучения на основе плазмы капиллярного разряда

И. И. Собельманa, А. П. Шевелькоa, О. Ф. Якушевa, Л. В. Найтb, Р. С. Турлиb

a Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
b Brigham Young University, USA

Аннотация: Приведены результаты исследований плазмы капиллярного разряда, используемой в качестве интенсивного источника ВУФ и мягкого рентгеновского излучения. Плазма создавалась при разряде малоиндуктивных конденсаторов в газонаполненном керамическом капилляре. При использовании разных рабочих газов (CO2, Ne, Ar, Kr, Xe) наблюдалось интенсивное линейчатое излучение в широком спектральном диапазоне (30–400 Å). Абсолютный выход излучения ксенонового разряда составил ~5 мДж·(2π ср)-1·имп.-1 в пределах спектральной полосы шириной 9 Å в области 135 Å. Такой источник излучения может использоваться в различных практических приложениях: проекционной ВУФ литографии, микроскопии биологических объектов в "водяном окне", рефлектометрии и др.

PACS: 52.25.Os, 52.50.Nr, 42.72.Bj

Поступила в редакцию: 17.06.2002


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2003, 33:1, 3–6

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024