ИК многофотонная диссоциация трихлорсилана под действием импульсного излучения CO2- и NH3-лазеров

Исследована ИК многофотонная диссоциация молекул трихлорсилана (SiHCl₃) под действием излучения импульсных CO₂- и NH₃-лазеров. Получены зависимости выхода диссоциации от частоты и плотности энергии лазерного излучения, а также от собственного давления SiHCl₃. Обнаружено, что основными продуктами диссоциации трихлорсилана являются HCl и твердый осадок предположительно с общей химической формулой (SiCl₂)_n.