RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2004, том 34, номер 6, страницы 537–540 (Mi qe2769)

Эта публикация цитируется в 27 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Лазерная микрообработка в газовой среде при высокой частоте повторения аблирующих импульсов

С. М. Климентовa, П. А. Пивоваровa, В. И. Коновa, Д. Брайтлингb, Ф. Даусингерb

a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
b Institut für Strahlwerkzeuge, Universität Stuttgart, Deutschland

Аннотация: Исследованы параметры лазерного аблирования каналов в стали в широком диапазоне частот f следования импульсов наносекундной длительности (5 Гц ≤ f ≤ 200 кГц). Обнаружено, что при f ≥ 4 кГц результаты абляционного воздействия в воздухе подобны тем, которые достигаются под действием единичных лазерных импульсов в вакууме. На основании данных эксперимента, а также оценок параметров лазерной плазмы и газовой среды в области лазерного воздействия сделан вывод о существовании долгоживущей области горячего разреженного газа, именуемой в теории взрыва "огненным шаром". Возникающее разрежение уменьшает экранирующее влияние приповерхностной плазмы, образующейся под действием последующих импульсов. Это позволяет использовать лазеры с высокой частотой повторения импульсов для достижения условий абляции, близких к вакуумным, не осложняя технологический процесс микрообработки применением вакуумных камер и устройств откачки.

PACS: 42.65.Cf, 52.38.Mf

Поступила в редакцию: 24.12.2003
Исправленный вариант: 30.03.2003


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2004, 34:6, 537–540

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024