RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2005, том 35, номер 7, страницы 622–626 (Mi qe2902)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Контроль лазерной обработки поликристаллических алмазных пластин методом низкокогерентной оптической интерферометрии

В. В. Кононенкоa, В. И. Коновa, С. М. Пименовa, П. В. Волковb, А. В. Горюновb, В. В. Ивановb, М. А. Новиковb, В. А. Маркеловb, А. Д. Тертышникb, С. С. Уставщиковb

a Центр естественно-научных исследований Института общей физики РАН, Москва
b Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород

Аннотация: Продемонстрирована возможность применения низкокогерентной волоконно-оптической интерферометрии для локального бесконтактного измерения оптической толщины пластин поликристаллического алмаза в процессе воздействия на его поверхность мощного импульсно-периодического лазерного излучения. Создана экспериментальная автоматизированная система, обеспечивающая контроль толщины образцов в процессе абляции их поверхности сканирующим пучком эксимерного KrF-лазера (λ = 248 нм). Показано, что данный метод может быть использован для online контроля лазерной шлифовки и изготовления плоскопараллельных пластин.

PACS: 52.38.Mf, 81.05.Uv

Поступила в редакцию: 30.09.2004
Исправленный вариант: 27.05.2005


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2005, 35:7, 622–626

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024