RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1993, том 20, номер 5, страницы 471–476 (Mi qe3064)

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Расходимость и интенсивность усиленного спонтанного излучения при его распределенном рефракционном выводе из активной среды

В. К. Ладагин, Ф. А. Стариков, В. Д. Урлин

Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики, Арзамас Нижегородской обл.

Аннотация: Аналитически и численно изучена динамика излучения в ближней и дальней зонах при распределенном рефракционном выводе нелинейно усиленного спонтанного рентгеновского излучения из плазменной активной среды (АС). Найдено, что расходимость усиленного шума Δθ экспоненциально уменьшается с ростом длины АС z; при z, равном 5 – 6 рефракционным длинам, Δθ на порядок меньше геометрической расходимости. Максимальная сила излучения qm приходится на рефракционный угол и экспоненциально растет с ростом z. Темп роста qm и уменьшения Δθ может снижаться вследствие дифракции. Показано, что в случае линейного усиления шума qm также отвечает рефракционному углу и может существенно превышать осевую силу излучения, но преимущество в силе излучения по сравнению с торцевым выводом в однородной АС достигается при значительном проигрыше в мощности.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 42.70.Hj, 42.65.Jx, 42.55.Vc, 42.60.Jf

Поступила в редакцию: 06.10.1992


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1993, 23:5, 406–411

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024