RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1993, том 20, номер 12, страницы 1191–1195 (Mi qe3279)

Эта публикация цитируется в 21 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Импульс отдачи на твердую поверхность в режиме развитого лазерного испарения

Л. И. Кузнецов

Институт теплофизики СО АН РФ, Новосибирск

Аннотация: Экспериментально исследован импульс отдачи диэлектрических и металлических мишеней в диапазоне интенсивностей лазерного импульсного излучения 105–107 Вт/см2 при изменении давления окружающей среды и угла облучения. Получено уравнение с эмпирическими коэффициентами для расчета импульса отдачи облучаемых мишеней. Проведен анализ влияния экранирующих свойств эрозионного факела и противодавления на импульс отдачи при изменении внешнего давления.

УДК: 535.21:535.341+533.6.01

PACS: 42.62.Cf, 42.60.Jf

Поступила в редакцию: 16.04.1993


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1993, 23:12, 1035–1038

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024