RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1995, том 22, номер 4, страницы 374–376 (Mi qe361)

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Пороги образования приповерхностной плазмы при воздействии импульсного лазера на металл

И. Ю. Борец-Первак, В. С. Воробьев

Объединенный институт высоких температур РАН, г. Москва

Аннотация: Рассмотрена модель образования приповерхностной лазерной плазмы, связанная с нагревом и испарением теплоизолированных микродефектов поверхности. На ее основе дается интерпретация экспериментов, в которых такая плазма возникала при облучении титановой мишени микросекундными импульсами СО2-лазера. На основе сравнения с экспериментальными интенсивностями пробоя рассчитаны средние размеры микродефектов и их концентрация, которые согласуются с имеющимися в литературе данными. Рассчитана зависимость времени задержки образования плазмы от полной энергии в лазерном импульсе.

PACS: 52.50.Jm, 61.80.Ba, 68.35.Dv

Поступила в редакцию: 31.12.1995


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1995, 25:4, 354–356

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024