RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1992, том 19, номер 12, страницы 1172–1175 (Mi qe3676)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Об аномальном ВУФ излучении криогенной плазмы в смеси криптона с ксеноном

А. М. Бойченко, С. И. Яковленко

Институт общей физики РАН, Москва

Аннотация: Обнаруженное ранее аномальное излучение смеси Kr–Xe (λ ~176 нм) интерпретируется как излучение при оптических столкновениях. Построена кинетическая модель, объясняющая зависимость интенсивности излучения от состава и температуры газовой смеси.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 52.25.Os, 52.25.Kn, 52.20.-j

Поступила в редакцию: 12.05.1992


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1992, 22:12, 1094–1097

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024