RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1991, том 18, номер 6, страницы 708–709 (Mi qe3906)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Каплеобразование с поверхности расплава при возбуждении капиллярных волн лазерным облучением

А. Е. Зайкин, А. В. Левин, А. Л. Петров, C. А. Странин

Самарский филиал Физического института АН СССР им. П. Н. Лебедева

Аннотация: Исследованы причины каплеобразования с поверхности расплава и его влияние на обработку при лазерном облучении металлов. Показано, что преобладающим механизмом выноса расплава является давление отдачи струи испаряющегося материала. Оценки показали, что разбрызгивание расплава несущественно изменяет КПД использования излучения.

УДК: 621.373.826:536.421

PACS: 61.80.Ba, 61.82.Bg, 42.62.Cf, 68.03.Kn

Поступила в редакцию: 20.12.1990


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1991, 21:6, 643–644

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024