Аннотация:
Проведен анализ степени снижения порогового уровня накачки полупроводниковых гетеролазеров при нанесении
зеркально или диффузно высокоотражающих свет покрытий (металлических контактов) непосредственно
на сравнительно тонкие эмиттеры. Исследована зависимость этого эффекта от потерь в пассивных слоях,
толщины активного слоя и концентрации легирующих примесей в нем. Показано, что ожидаемые уровни
пороговой накачки у лазеров рассматриваемого типа могут быть в несколько раз ниже, чем у обычных
гетеролазеров.