RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1991, том 18, номер 10, страницы 1226–1228 (Mi qe4298)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Импульсно-периодическое лазерное травление алмазоподобных углеродных покрытий

В. И. Конов, Т. В. Кононенко, С. М. Пименов, А. А. Смолин, Н. И. Чаплиев

Институт общей физики АН СССР, Москва

Аннотация: Измерялись скорости травления пленок α-С:Н излучением эксимерного лазера в воздухе и вакууме. Установлено, что два механизма абляции – химический и физический – доминируют в различных диапазонах плотности энергии. Рассматриваются процессы, влияющие на возникновение химического травления и ограничивающие его скорость. Проведено сравнение энергозатрат на обработку пленок α-С:Н непрерывным и импульсно-периодическим лазерным излучением.

УДК: 621.373.826

PACS: 79.20.Ds, 81.65.Cf, 42.55.Lt, 61.80.Ba

Поступила в редакцию: 12.05.1991


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1991, 21:10, 1112–1115

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024