Аннотация:
Измерена электронная температура $T_e$ лазерной плазмы, формирующейся на поверхности металлической мишени под действием наносекундных импульсов излучения с длинами волн $\lambda$ = 1060, 530 и 265 нм в диапазоне интенсивностей $I\simeq10^9$–$10^{13}$ Вт/см$^2$. Электронная температура определялась по ЭДС двойного зарядового слоя на границе плазмы. Показано, что с точностью до наблюдаемого разброса экспериментальных данных температура плазмы не зависит от длины волны лазерного излучения (в диапазоне 1060–265 нм), а ее зависимость от интенсивности излучения во всем исследованном диапазоне может быть апроксимирована как $T_e\sim I^{1/3}$.