RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1984, том 11, номер 2, страницы 349–354 (Mi qe4843)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Структура магнитного поля плазмы лазерного факела при низких плотностях потока излучения

В. А. Горбунов, Л. С. Никольская, А. И. Петрухин, В. А. Пуштарик, В. А. Рыбаков

Институт физики Земли им. О. Ю. Шмидта АН СССР, Москва

Аннотация: Измерены структуры и динамика развития тороидальной компоненты магнитного поля, генерируемого лазерным факелом при плотности потока лазерного излучения ~200 МВт/см2 и давлении ~5·10–2 мм рт. ст. Проведено сравнение экспериментальных результатов с расчетом осесимметричного факела, позволяющее сделать заключение, что основным источником магнитного поля является термо-ЭДС, действующая в плазме лазерного факела.

УДК: 535.95

PACS: 52.50.Jm, 52.38.Fz

Поступила в редакцию: 13.04.1983


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1984, 14:2, 238–241

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024