RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1983, том 10, номер 10, страницы 1963–1964 (Mi qe4844)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Письма в редакцию

На пути к фотоионной лазерной эпитаксии: исследование чистоты и условий зарождения кристаллических пленок индия

В. С. Летохов, В. И. Мишин, М. Л. Мучник, Ю. В. Орлов, Е. Я. Черняк

Институт спектроскопии АН СССР, г. Троицк, Моск. обл.

Аннотация: Исследованы различные конструкции и режимы работы систем экстракции ионов в методе селективной ступенчатой лазерной фотоионизации атомов. Проведено измерение фактора разделения веществ за один цикл. В случае специального внесения ряда примесей получен фактор разделения ≥103. При осаждении из ионного пучка In+ наблюдалось снижение температуры кристаллизации до 300 K.

УДК: 621.378:535

PACS: 81.15.Jj, 42.60.Kg

Поступила в редакцию: 29.06.1983


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1983, 13:10, 1308–1309

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024