RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1983, том 10, номер 10, страницы 2022–2026 (Mi qe4858)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Влияние испарения на поведение расплава при лазерном воздействии на металлы

А. А. Самохин

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва

Аннотация: Теоретически исследуется поведение расплава, на поверхности которого поглощается лазерное излучение с однородным распределением интенсивности. Получено дисперсионное уравнение для гидродинамических возмущений с учетом испарительного давления, термокапиллярных сил и вязкости расплава. Показано, что испарительное давление приводит к неустойчивости поверхности расплава. Этот эффект качественно отличается от неустойчивости плоского фронта сублимации, которая возникает только при объемном поглощении лазерного излучения. Время развития гидродинамической неустойчивости быстро уменьшается с ростом температуры облучаемой поверхности и становится короче миллисекунды, когда испарительное давление достигает 0,1 бар.

УДК: 535.211:536.4

PACS: 79.20.Ds, 64.70.Fx

Поступила в редакцию: 22.12.1981
Исправленный вариант: 23.02.1983


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1983, 13:10, 1347–1350

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024