RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1984, том 11, номер 4, страницы 661–665 (Mi qe4998)

Эта публикация цитируется в 1 статье

О разрешающей способности лазерной литографии на тонких металлических пленках

В. П. Вейко, Е. А. Тучкова, Е. Б. Яковлев


Аннотация: Теоретически рассмотрена разрешающая способность лазерной термолитографии при разрушающем и неразрушающем воздействии. Показано, что при неразрушающем воздействии максимальная разрешающая способность лазерной литографии соответствует разрешающей способности используемой оптической системы, а при разрушающем воздействии она определяется свойствами материала пленки и подложки, толщиной пленки и режимом облучения. Определены условия, при которых разрешающая способность лазерной термолитографии максимальна.

УДК: 776:621.373.826

PACS: 42.62.-b, 42.30.Va, 42.60.Jf, 61.80.Ba, 61.82.Bg

Поступила в редакцию: 22.02.1983


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1984, 14:4, 449–452

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024