RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1984, том 11, номер 4, страницы 833–835 (Mi qe5046)

Краткие сообщения

Влияние глубоких примесных уровней на пороговые характеристики лазеров на основе $n$-Ga$_{1-x}$Al$_x$As с накачкой электронным пучком

О. В. Богданкевич, Н. А. Борисов, Д. В. Галченков, И. И. Усвят, О. В. Чернышева

Всесоюзный научно-исследовательский центр по изучению свойств поверхности и вакуума, Москва

Аннотация: Исследовались пороговые характеристики лазеров на основе Ga$_{1-x}$Al$_x$As $n$-типа проводимости с накачкой электронным пучком в широком диапазоне состава ($0,10\lesssim x\lesssim 0,30$) и степени легирования ($5\cdot10^{16}$ см $^{-3}\le n\le1\cdot10^{18}$ см $^{-3}$). Для объяснения характера зависимости пороговой плотности тока от состава и степени легирования рассмотрен процесс безызлучательной рекомбинации, связанный с глубокими донорными уровнями, энергия активации которых относительно $L$-минимума зоны проводимости $E_\alpha=150$ мэВ, сечение безызлучательной рекомбинации $\sigma=(1,8-2,0)10^{-17}$ см$^2$. Определены оптимальные значения степени легирования для различных составов.

УДК: 621.375.826+621.315.59

PACS: 42.55.Px, 42.60.Jf, 61.72.Vv

Поступила в редакцию: 07.07.1983


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1984, 14:4, 563–565

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024