Механизм образования ионов при облучении поверхности молекулярных кристаллов импульсным лазерным излучением

Исследуется процесс образования ионов при облучении молекулярных кристаллов УФ лазерными импульсами умеренной интенсивности. Рассматривается образование ионов как собственных молекул кристаллов, так и молекул, адсорбированных на поверхности. Показано, что механизм этого процесса следующий: импульс лазерного излучения слегка нагревает поверхность, что приводит к увеличению скорости испарения молекул в течение лазерного импульса; покинувшие поверхность свободные молекулы ионизируются над поверхностью через промежуточное электронное состояние тем же импульсом излучения. Приводятся результаты расчетов, хорошо согласующиеся с экспериментальными данными. Предложен метод существенного повышения чувствительности фотоионизационного детектирования молекул за счет адсорбции на поверхности и импульсной десорбции.