RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1974, том 1, номер 1, страницы 119–123 (Mi qe5703)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Спектры образования центров окраски в лазерных стеклах

Л. Б. Глебов, М. Н. Толстой


Аннотация: Исследованы спектры образования центров окраски в матрицах промышленных силикатных стекол. Показано, что центры окраски образуются под действием ультрафиолетового излучения в узкой полосе шириной ~15 нм в области λ = 180–240 нм. Обнаружена корреляция между положением коротковолновой границы поглощения стекла и положением спектра образования центров окраски. Показано, что действие обычно применяемых антисоляризаторов в основном сводится к поглощению ими фотохимически активного излучения в области 180–240 нм.

УДК: 666.249.1:621.378.9

PACS: 42.70.Hj, 42.70.Ce, 61.72.Ji, 78.40.Pg, 61.80.Ba

Поступила в редакцию: 10.07.1973


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1974, 4:1, 65–67


© МИАН, 2024