Аннотация:
Исследованы спектры образования центров окраски в матрицах промышленных силикатных стекол. Показано, что центры окраски образуются под действием ультрафиолетового излучения в узкой полосе шириной ~15 нм в области λ = 180–240 нм. Обнаружена корреляция между положением коротковолновой границы поглощения стекла и положением спектра образования центров окраски. Показано, что действие обычно применяемых антисоляризаторов в основном сводится к поглощению ими фотохимически активного излучения в области 180–240 нм.