RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1985, том 12, номер 1, страницы 184–186 (Mi qe5878)

Краткие сообщения

Относительная устойчивость рабочих смесей йодных фотодиссоционных лазеров к развитию энтальпийного вынужденного рассеяния

К. С. Корольков, О. Ю. Носач, Е. П. Орлов

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва

Аннотация: В йодном лазере с ламповой накачкой обнаружено, что отношения экспериментально измеренных глубин провалов в профилях волн неоднородностей в различных рабочих смесях совпадают с отношениями нестационарных коэффициентов усиления при энтальпийном вынужденном рассеянии, вычисленными теоретически. На основании этого предложен экспресс-метод определения относительной устойчивости рабочих смесей йодных лазеров к развитию в них энтальпийного вынужденного рассеяния.

УДК: 621.373.826.038.823

PACS: 42.55.Ks, 42.60.Jf, 42.60.Lh

Поступила в редакцию: 10.07.1984


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1985, 15:1, 114–116

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024