Квантовая электроника,
1982, том 9, номер 9,страницы 1912–1915(Mi qe6020)
Краткие сообщения
Влияние параметров оптической обработки и процесса естественного старения на глубину нарушенного слоя
и лучевую прочность поверхности монокристаллов КСl
Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва
Аннотация:
Исследовано влияние размеров зерна абразива и типа смачивающе-охлаждающей жидкости на стадии шлифовки, отжига и процесса естественного старения полированной поверхности монокристаллов КСl на глубину нарушенного слоя и поверхностную лучевую прочность. Показано, что применение методов оптической обработки, обеспечивающих минимальную глубину нарушенного слоя (например, отжиг), позволяет значительно повысить лучевую прочность по сравнению с традиционными методами обработки как свежеполированных, так и состаренных поверхностей.
УДК:
621.378.32
PACS:
81.60.-j, 81.40.Ef, 81.40.Tv
Поступила в редакцию: 23.08.1981 Исправленный вариант: 30.11.1981