RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1986, том 13, номер 4, страницы 837–839 (Mi qe6543)

Краткие сообщения

Устойчивость сжатия оболочечных мишеней на установке «Прогресс»

Н. М. Барышева, А. А. Горохов, А. Л. Запысов, И. М. Израилев, В. Б. Крюченков, В. А. Лыков, В. А. Подгорнов, В. Г. Покровский, В. А. Пронин, А. В. Чарухчев


Аннотация: В экспериментах на 6-пучковой лазерной установке «Прогресс» исследовались сжатие и нагрев стеклянных микросфер с DT-газом, покрытых снаружи тонким (~0,1 мкм) слоем алюминия. Плотность потока излучения Nd-лазера (λ = 1,054 мкм) на поверхности мишени составила (1–2)·1015 Вт/см2, удельный энерговклад – 0,1–0,25 Дж/нг. Зарегистрированы двумерные изображения лазерной плазмы в рентгеновских линиях многозарядных ионов Si и Al. Интенсивное излучение линий Al на расстояниях, близких к центру мишени, свидетельствует о существенно неустойчивом характере сжатия лазерной плазмы. Это подтверждается также слабой зависимостью нейтронного выхода от удельного энерговклада, не согласующейся с результатами одномерных расчетов по программе «Заря».

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 61.80.Ba, 79.20.Ds, 52.50.Jm

Поступила в редакцию: 03.06.1985


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1986, 16:4, 543–546

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024