RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1986, том 13, номер 4, страницы 849–851 (Mi qe6553)

Краткие сообщения

Приповерхностный фоторефракционный эффект в кристалле ниобата лития

И. Б. Баркан, В. Н. Ищенко, С. А. Кочубей, Д. И. Луненок, А. М. Ражев

Институт теплофизики СО АН СССР, Новосибирск

Аннотация: Обнаружен новый эффект, заключающийся в большом необратимом изменении коэффициента преломления Δn ≈ –0,2, происходящем в приповерхностном слое толщиной около 30 нм при воздействии мощного лазерного ультрафиолетового излучения (длина волны излучения 249 нм, длительность импульса 5 нс, плотность мощности 20 МВт/см2).

УДК: 621.373.826

PACS: 42.65.Hw, 42.70.Nq, 78.20.Ci, 61.80.Ba

Поступила в редакцию: 12.08.1985


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1986, 16:4, 553–555

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024