RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1985, том 12, номер 5, страницы 1089–1091 (Mi qe7105)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Краткие сообщения

Получение квазинепрерывной генерации на F2+ и F3-центрах окраски в NaF и использование ее для внутрирезонаторной спектроскопии

В. А. Врацкий, А. Н. Колеров

Всесоюзный научно-исследовательский институт физико-технических и радиофизических измерений, Менделеево, Моск. обл.

Аннотация: Приведены результаты экспериментальных исследований по получению квазинепрерывной генерации на кристалле NaF:F2+:F3 с лазерным возбуждением. Вынужденное ИК излучение длительностью порядка 0,5 мс получено в диапазоне Δλ = 0,98–1,4 мкм, что позволило создать внутрирезонаторный спектроанализатор с максимальной чувствительностью κ ≈ 5×10–9см–1.

УДК: 621.375.826

PACS: 42.55.Rz, 42.60.By, 42.60.Da, 42.62.Fi

Поступила в редакцию: 28.08.1984


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1985, 15:5, 718–719

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024