Генерация на $(F_2^+)_A$-центрах окраски в кристалле NaF

Сообщается о создании перестраиваемого лазера на $(F_2^+)_A$-центрах в кристалле NaF с накачкой рубиновым лазером, имеющего следующие параметры: область перестройки 0,95–1,3 мкм, порог 400 кВт/см$^2$, КПД 15%, выходную мощность 1 МВт. Обнаружено, что $(F_2^+)_A$-центры при комнатной температуре обладают высокой стабильностью. Исследован процесс преобразования $(F_2^+)_A$-центров под действием мощного излучения накачки и установлено существование стабильной компоненты этих центров.