RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1990, том 17, номер 8, страницы 1044–1049 (Mi qe7329)

Воздействие лазерного излучения на вещество

Влияние флуктуации размеров и числа микродефектов поверхности на пороги плазмообразования при лазерном воздействии

И. Ю. Борец-Первак, В. С. Воробьев

Институт высоких температур АН СССР, Москва

Аннотация: Учтено влияние статистического разброса размеров теплоизолированных микродефектов и их числа в площади пятна фокусировки на пороговые энергии плазмообразования при лазерном воздействии импульсами микросекундной длительности на поверхность металлов. В координатах интенсивности лазерного импульса и его поверхностной плотности энергии построены области плазмообразования, соответствующие различным числам микродефектов в площади пятна фокусировки, и лазерные импульсы. Обсуждаются различные пороговые и непороговые режимы плазмообразования. Определенные по ограниченному набору экспериментальных данных размеры микродефектов и их статистические характеристики позволяют согласованным образом описать особенности образования плазмы у полированных и неполированных поверхностей.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 52.50.Jm, 42.60.Jf, 42.60.Lh, 42.65.Re

Поступила в редакцию: 17.07.1989


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1990, 20:8, 959–964

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024