RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 7, страницы 615–619 (Mi qe734)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Управление параметрами лазерного излучения

Влияние параметров эталона Фабри — Перо на характеристики генерации узкополосного длинноимпульсного XeCl-лазера

С. В. Ефимовский, С. В. Курбасов, А. В. Новичков, К. К. Пальчикова

Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: Исследовано влияние резкости и ширины контура пропускания внутрирезонаторного эталона Фабри — Перо (ЭФП) на форму и возможность управления спектром генерации длинноимпульсного XeCl-лазера. Показано, что для получения генерации с управляемым спектральным контуром полушириной не более 1 см–1 достаточно использования ЭФП с полушириной аппаратной функции ~7 см–1. Получены обзорные спектры широкодиапазонной перестройки лазера для эталонов с резкостью F = 4.5,11 и 30. Во всех случаях полная девиация частоты лазера при перестройке превышала 140 см–1.

PACS: 42.55.Lt, 42.60.Lh

Поступила в редакцию: 01.01.1996


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1996, 26:7, 599–603

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024