RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 7, страницы 637–641 (Mi qe739)

Эта публикация цитируется в 12 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Лазерное травление поверхности поликристаллического карбида кремния излучением лазера на парах меди

В. В. Воронов, С. И. Долгаев, A. A. Лялин, Г. А. Шафеев

Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва

Аннотация: Исследовано лазерное травление поликристаллического карбида кремния излучением лазера на парах меди в воздухе и в жидких средах (вода, диметилсульфоксид). Максимальная скорость травления керамики SiC в воздухе достигает 0.24 мкм/имп., в диметилсульфоксиде — 0.07 мкм/имп. при плотности энергии 16 Дж/см2. Методами сканирующей электронной микроскопии и рентгеноструктурного анализа исследовано изменение морфологии и химического состава протравленной поверхности SiC. Обнаружено образование при травлении в воздухе частично аморфизованного карбида кремния и микрокристаллов свободного Si с характерным размером около 30 нм. Показано, что на поверхности карбида кремния после лазерного травления возможно восстановление меди из раствора для химической металлизации. Полученные металлические покрытия имеют высокую адгезию к поверхности (до 30 Н/мм2).

PACS: 81.65.Cf, 42.62.Cf

Поступила в редакцию: 01.01.1996


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1996, 26:7, 621–625

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024