А. Л. Михайличенко, Г. Н. Михайлова, A. М. Прохоров, А. С. Сеферов, А. В. Троицкий, А. О. Медников, Б. П. Михайлов, Г. С. Бурханов, И. Е. Лапшина, “Лазерное плавление ВТСП-керамики на основе Bi(2223)”, Квантовая электроника, 23:8 (1996), 715

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Лазерное плавление ВТСП-керамики на основе Bi(2223)

А. Л. Михайличенко^a, Г. Н. Михайлова^a, A. М. Прохоров^a, А. С. Сеферов^a, А. В. Троицкий^a, А. О. Медников^a, Б. П. Михайлов^b, Г. С. Бурханов^b, И. Е. Лапшина^c

^a Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва
^b Институт металлургии и материаловедения им. А. А. Байкова РАН
^c Государственный институт редких металлов, г. Москва

Аннотация: Показано, что кратковременное плавление ВТСП-керамики с использованием излучения СО₂-лазера в сочетании с непродолжительной термообработкой приводит к образованию более плотной мелкозернистой структуры (размер зерен 2 — 3 мкм) как в исходной керамике Bi(2223), так и в легированном материале. Структура полученного типа способствует заметному повышению критического тока сверхпроводника.

PACS: 42.62.Hk, 64.70.Dv, 74.72.Hs, 74.60.Jg

Поступила в редакцию: 01.01.1996