RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 8, страницы 719–724 (Mi qe759)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Особенности нагрева плазмы коротковолновым излучением эксимерного лазера

А. Я. Фаеновa, А. И. Магуновa, Т. А. Пикузa, И. Ю. Скобелевa, С. А. Пикузb, С. Боллантиc, П. Ди Лаззароc, Н. Лизиc, Ф. Флораc, Т. Летардиc, Л. Палладиноd, А. Реалеd, А. Скафатиe, А. Гриллиf, Д. Батаниg, А. Мауриg, А. Остерхельдh, В. Голдстейнh

a Центр данных по спектрам многозарядных ионов, п. Менделеево, Московская обл.
b Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва
c ENEA Centro Ricerche di Frascati, Frascati (Roma), Italy
d University of L’Aquila, Italy
e Laboratorio di Fisica, Istituto Superiore di Sanita, Rome, Italy
f Instituto Nazionale di Fisica Nucleare, Frascati, Italy
g University of Milan, Italy
h Lawrence Livermore National Laboratory, USA

Аннотация: С помощью различных рентгеноспектральных методов исследована плазма, создаваемая при взаимодействии импульса излучения коротковолнового эксимерного лазера (12 нс, 0.308 мкм, 4·1012 Вт/см2) с плоскими мишенями. Сопоставление формы контуров и интенсивностей ряда наблюдаемых спектральных линий Н-, Не- и Li-подобных ионов натрия, магния и алюминия с результатами проведенных расчетов позволило определить пространственные распределения параметров лазерной плазмы вплоть до расстояний ~0.4 мм от поверхности мишени. Сравнение полученных результатов с результатами простой теоретической модели поглощения коротковолнового излучения в плазме показало, что поглощение коротковолнового нагревающего излучения в плазме (при рассмотренных интенсивностях излучения) осуществляется за счет обратного тормозного механизма в областях с плотностью электронов много меньше критической.

PACS: 52.50.Jm, 52.25.Jm, 52.70.La

Поступила в редакцию: 01.01.1996


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1996, 26:8, 700–705

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024