RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 8, страницы 725–728 (Mi qe760)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Изменение коэффициента отражения ВТСП-керамики NdCeCuO в видимой области спектра при воздействии импульса ИК излучения

С. Д. Зотов, О. М. Иваненко, В. В. Кривов, Е. М. Кудрявцев, Б. Г. Макеев, К. В. Мицен, Ю. И. Рыбалко

Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: На базе IBM PC/XT разработана автоматизированная методика измерения временного хода отражения высокотемпературной сверхпроводящей керамики Nd1.85Ce0.15CuO4–y при комнатной температуре в области фокального пятна лазерного облучения. Для возбуждения использовался электрогазодинамический лазер с излучением в области длин волн 16 – 18 мкм c радиусом пятна ~0.5 мм, длительностью импульса ~0.12 с, мощностью ~1 Вт. Измерение проводилось с помощью He — Ne-лазера, линейно поляризованный свет которого отражался под углом Брюстера от керамики в центре пятна излучения лазера накачки. За время ИК импульса отражение обратимо возрастало на ~4.5%. Из сравнения с измеренным относительным изменением отражения этой же керамики при нагреве до 300°С оценена температура нагрева образца в фокусе лазерного пятна. Рост температуры в течение одного импульса составил ~50°С, что согласуется с расчетом нагрева.

PACS: 78.20.Ci, 74.72.Jt, 61.80.Ba

Поступила в редакцию: 01.01.1996


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1996, 26:8, 706–709

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024