RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1994, том 21, номер 4, страницы 333–336 (Mi qe80)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Многофотонное окрашивание свинцово-силикатных стекол под действием мощного лазерного излучения

О. М. Ефимов, Ю. А. Матвеев, А. М. Мекрюков

НИИ комплексных испытаний оптико-электронных приборов и систем, г. Сосновый Бор, Ленинград. обл.

Аннотация: Исследован механизм образования центров окраски в свинцово-силикатных стеклах под действием мощного лазерного излучения. Установлено, что длинноволновая граница подвижности носителей заряда в этих стеклах (> 5.8 эВ) расположена значительно выше границы фундаментального поглощения (3.5 эВ), вследствие чего окрашивание наблюдается только при многофотонной ионизации матрицы стекла. Показано, что основной вклад в изменение пропускания непосредственно в течение действия импульса лазерного излучения наносекундной длительности вносит поглощение излучения образующимися центрами окраски. Получена оценка коэффициента трехфотонного поглощения стекла ТФ10 на длине волны 527 нм.

PACS: 61.72.Ji, 78.50.Ec, 42.62.Hk

Поступила в редакцию: 20.09.1993


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1994, 24:4, 311–314

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024