RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1989, том 16, номер 6, страницы 1214–1220 (Mi qe8173)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Воздействие излучения на вещество

Отражение излучения XeCl-лазера от алюминиевой мишени в присутствии эрозионной плазмы

В. П. Агеев, А. А. Горбунов, В. И. Конов

Институт общей физики АН СССР, Москва

Аннотация: Экспериментально исследуются процессы воздействия излучения эксимерного XeCl-лазера (λ = 308 нм, τ = 20 нс) на алюминий. Установлено, что в вакууме порог образования эрозионной плазмы (q * = 200 МВт/см2) не зависит от числа воздействий N. В воздухе q * существенно зависит от N и может снижаться до 70 МВт/см2, что обусловлено образованием на поверхности мишени сильнопоглощающего слоя. Глубина выноса массы при q ≈ 1 ГВт/см2 достигает 1 мкм за импульс. Средняя за импульс оптическая толщина плазмы порядка 0,3 для λ = 308 нм. При испарении излучением XeCl-лазера поглощательная способность алюминия возрастает в 3 – 5 раз. Температура эрозионной плазмы при q ≈ 1 ГВт/см2 не превышает 2 эВ. Составлен общий энергобаланс в системе лазерное излучение – мишень – плазма в вакууме.

УДК: 621.373.826.038.823

PACS: 52.38.-r, 52.25.Os, 42.55.Lt

Поступила в редакцию: 09.03.1988


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1989, 19:6, 785–789

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024