RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1989, том 16, номер 6, страницы 1238–1240 (Mi qe8176)

Воздействие излучения на вещество

Оптический пробой фтористых кристаллов излучением KrF-лазера с λ = 248 нм

А. Д. Клементов, Н. В. Морозов, В. М. Рейтеров, П. Б. Сергеев

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва

Аннотация: Определялись пороги объемного разрушения выпускаемых промышленностью УФ кристаллов MgF2, CaF2 и LiF излучением KrF-лазера с λ = 248 нм и длительностью импульса 70 нс. Найдена зависимость порогов разрушения этих кристаллов от диаметра фокального пятна при его изменении от 8 до 1600 мкм.

УДК: 621.373.826:535 21

PACS: 42.55.Lt, 42.70.Hj, 52.80.Wq

Поступила в редакцию: 22.08.1988


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1989, 19:6, 801–803

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024