RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1989, том 16, номер 6, страницы 1240–1243 (Mi qe8177)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Воздействие излучения на вещество

Исследование порога плазмообразования, экранирующего излучение в пространственном фильтре

С. А. Димаков, С. И. Завгороднева, Л. В. Ковальчук, А. Ю. Родионов, В. П. Яшуков


Аннотация: Экспериментально исследован процесс возникновения плазмы в вакуумированном объеме металлической диафрагмы пространственного фильтра. Получена оценка порога плазмообразования, при котором происходит экранировка фильтруемого излучения CO2-ЭИЛ. Установлено, что этот эффект возникает уже через 5 мкс после начала генерации при попадании на край диафрагмы излучения с концентрацией световой энергии в импульсе, превышающей 500 Дж/см2.

УДК: 621.373.826

PACS: 52.25.Os, 52.50.Jm, 42.79.Ci

Поступила в редакцию: 24.09.1988


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1989, 19:6, 803–805

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024